ASML控股申請光刻設備專利 新技術提升精度
2024年12月9日，國家知識產(chǎn)權局公開了一項由ASML控股股份有限公司申請的專利，名為“光刻設備、襯底臺和不均勻涂層方法”，公開號為CN 119087748 A，申請日期為2020年4月。
該專利描述了一種光刻設備，包括照射系統(tǒng)、支撐件、投影系統(tǒng)以及襯底臺。襯底臺包含一個臺座，其表面覆蓋有一層不均勻厚度的涂層。這種涂層的設計使得臺座相對于名義平坦度的偏轉(zhuǎn)成為由涂層引起的應力函數(shù)。涂層的橫截面輪廓根據(jù)應力和不均勻厚度進行調(diào)整，確保涂層表面保持實質(zhì)上的平坦，并在襯底臺支撐襯底時與之接觸。
(責任編輯：張小花 TT1000)
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