俄羅斯成功自主研發(fā)了首臺光刻機,目前正處在測試階段,這是俄羅斯在半導體技術自給自足方面的重要一步。該國工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克透露,這臺國產(chǎn)光刻機能夠制造350納米級別的芯片,它作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)線的組成部分正在進行功能驗證。
全球范圍內(nèi),高級光刻機市場主要由荷蘭的ASML、日本的佳能和尼康等幾家公司主導。相比之下,當前最先進的技術已能實現(xiàn)2-3納米的芯片生產(chǎn),但350納米技術依舊在汽車制造、能源供應及電信行業(yè)等領域扮演著重要角色。尤其對于正面臨歐美嚴格技術制裁的俄羅斯半導體行業(yè),這一自主研發(fā)成果不僅是技術突破的象征,也預示著俄羅斯朝著減少對外依賴、增強本土半導體產(chǎn)業(yè)自主性和競爭力的目標邁出了實質(zhì)性的步伐。
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ASML計劃在今年內(nèi)向臺積電提供其最尖端的光刻機,每臺設備的造價高達3.8億美元。這一消息透露出半導體制造技術的最新進展
2024-06-07 18:15:06臺積電獲最先進光刻機