9月6日,荷蘭政府宣布了新的浸潤式DUV光刻設(shè)備出口許可規(guī)則。光刻機制造巨擘ASML對此發(fā)布聲明,指出新規(guī)則旨在使出口許可流程更加統(tǒng)一協(xié)調(diào)。自2024年9月7日起,ASML出口相關(guān)高端制造裝備至歐盟以外地區(qū)前,必須向荷蘭政府申請授權(quán),政府則會依據(jù)具體情況進行審批。
此前,路透社報道了美國單方對ASML出口施加限制,引發(fā)荷蘭議員對國家主權(quán)受損的擔(dān)憂,ASML也表達(dá)了在美國與荷蘭不同許可要求下運營的難度。
根據(jù)最新的許可條款,結(jié)合美國《出口管理條例》特定章節(jié),ASML在出口TWINSCAN NXT:1970i和1980i型浸潤式DUV光刻系統(tǒng)時,需向荷蘭政府申請許可,而非以往的美國政府。實際上,荷蘭政府已對TWINSCAN NXT:2000i及其后推出的浸潤式光刻系統(tǒng)執(zhí)行了相似的許可要求,ASML的EUV光刻系統(tǒng)銷售同樣受限于出口許可政策。
ASML強調(diào),這一變動屬于程序性調(diào)整,預(yù)計不會顯著影響公司2024年的財務(wù)預(yù)測或在2022年11月投資者日上披露的長期發(fā)展藍(lán)圖。
9月8日,商務(wù)部新聞發(fā)言人就荷蘭半導(dǎo)體出口管制問題答記者問。
2024-09-08 11:35:36荷蘭將擴大光刻機管制范圍ASML計劃在今年內(nèi)向臺積電提供其最尖端的光刻機,每臺設(shè)備的造價高達(dá)3.8億美元。這一消息透露出半導(dǎo)體制造技術(shù)的最新進展
2024-06-07 18:15:06臺積電獲最先進光刻機